酸素?窒素?水素分析裝置

酸素：不活性ガス融解-非分散型赤外線吸収法(NDIR)
窒素：不活性ガス融解-熱伝導(dǎo)度法(TCD)
水素：不活性ガス融解-非分散型赤外線吸収法(NDIR)

1.0±0.1g

酸素/窒素：
σn-1≦0.000002%(m/m)もしくはCV≦0.5%(標(biāo)準(zhǔn)ガス)
σn-1≦0.00003%(m/m)：標(biāo)準(zhǔn)値0.001%(m/m)以下の試料を指定
CV≦1.0%：標(biāo)準(zhǔn)値0.01?0.02%(m/m)の試料を指定
CV≦0.5%(m/m)：標(biāo)準(zhǔn)値15%(m/m)以上のセラミックス試料を指定
水素：
σn-1≦0.000004%(m/m)もしくはCV≦2.0%(標(biāo)準(zhǔn)ガス)
※2 試料質(zhì)量は1.0±0.1gとする(ただし、セラミックス試料は除く)。
下記の自動化機(jī)構(gòu)を用いた保証値。
標(biāo)準(zhǔn)試料は弊社指定のものを用いる。

(1)測定結(jié)果：LCDおよびプリントアウト時(shí)
(2)アラームメッセージ：LCDおよびプリントアウト時(shí)
(3)フローシート：LCD

デュアル投入機(jī)構(gòu)

コンパレータ積算、時(shí)間積算の併用またはいずれかを選択
測定成分ごとにゼロ點(diǎn)タイミングを設(shè)定可能

(1)1點(diǎn)または最小自乗一次近似式を用いた多點(diǎn)校正 (ガス/標(biāo)準(zhǔn)試料)
(2)メモリ校正機(jī)能
(3)校正式補(bǔ)正機(jī)能

750mm(H)×785mm(D)×653mm(W)
(但し試料投入口は設(shè)置機(jī)上面から650mm)
質(zhì)量：230kg(但し搬送時(shí)には140kg以下のユニットに分割)

(1)電源電圧：AC200/220/230V (特注による240V対応可能)
AC100V(オートクリーナ用 吸引機(jī)など周辺機(jī)器：ステップダウントランスで対応可能)
(2)電圧変動：基準(zhǔn)電圧±10%以內(nèi)
(3)周波數(shù)：50/60±1Hz
(4)消費(fèi)電力：本體：12kVA(MAX)、周辺機(jī)器：1.5kVA(MAX)
(5)設(shè)置：電気設(shè)備技術(shù)基準(zhǔn)第1種または特別3種の獨(dú)立アース(接地抵抗10Ω以下)

ヘリウム：純度99.995%以上、圧力0.35MPa (裝置本體より3m以內(nèi)にてØ3/2mm SUS管取り合い)
窒素または乾燥空気：圧力0.40MPa (裝置本體より5m以內(nèi)にてØ6/4mm ナイロン管取り合い)

最小表示1～0.01mgまで接続可能 ＜オプション＞